平面抛光机主要就是达到最大的抛光效果，很快的磨去需要抛光物件的损伤层面，还要使抛光的损伤层面不伤害到组织。抛光机在粗抛的时候，应尽量减少的损伤最小，不要形成新的损伤，接下来是精细抛光，主要就是为了打磨粗抛留下的划痕，细抛就是将抛光面的损伤达到最小，抛光的物件最好与平面抛光机的转盘均匀的接触，注意不要让抛光物件飞出转盘，也不要用力压抛光物件，还要均匀的来回移动，否则会使抛光物件同一处产生新的磨痕，对物件产生新的损害，抛光物件在抛光的过程要不断像期间加入悬浮液，这样抛光物件会保持一定的湿度，保持适当的湿度，会减弱抛光对物件带来的磨痕，如果湿度太大会使抛光物件中的出现硬相浮凸，石墨类的抛光物件出现甩尾现象，如果湿度太小的话，抛光的过程中，会产生大量的热量，起不到了润滑的作用，还回影响抛光带来的光泽，严重是话，可能会出现黑斑，轻合金也可能会抛伤抛光物件的表面。要想达到抛光的理想效果，粗磨的时候要放慢转盘的速度，用来抛光的时间要相对长一些。