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平面研磨机的抛光轨迹分析
来源：本站 发布日期：2014/4/5 已有 2525 人浏览
平面研磨机的抛光轨迹分析
当工件在平面研磨机研磨盘上运转时，工件的表面粗糙颗粒就被加工得出一个更为理想的平面，那么工件与加工盘之间有一个怎么样的运转轨迹呢？
平面研磨机抛光设备主要有双轴式、直线式、计算机控制小工具四种类型。其中前三者是用大工具盘加工小工件。
双轴式又可分为定偏心和不定偏心两类。
对于定偏心双轴式平面研磨机，一般认为当工件转速与研磨盘转速相等时，越靠近工件中心材料去除率越低。
对于不定偏心式双轴式平面研磨机，其研磨轨迹均匀性明显好于定偏心式设备，更有利于工件面形精度的提高。适于加工直径大于200mm的大尺寸工件。
对于直线式平面研磨机，其机构运动形式简单，如将研磨带加长可以形成批量生产，生产效率较高。
摇摆式平面研磨机，当其转速比越不规则或越接近除不尽时，研磨轨迹的分布越致密。
而计算机控制小工具式平面研磨机的研磨轨迹，分形轨迹比定偏心和不定偏心轨迹更有利于获得更高的平面度，特别是工件面积增大时，这一结果更明显。
总之，不同的研磨方式的研磨轨迹不同，但我们并不能按照轨迹分析来预测加工结果。与实际情况更接近的研磨轨迹的研究有待进一步的发展。
